Anandtech公布科技巨头7nm路线图:Intel大幅落后

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IT之家6月25日消息 今天科技网站Anandtech宣布了几家半导体巨头最新的制程路线图,主要本来下一代的10nm和7nm工艺制程。通过路线图可不并能就看台积电与GF可不并能说即将翻身,而老牌企业Intel则将在10nm制程徘徊一段时间。

从官方宣布的路线图来看,台积电是最快到达7nm工艺制程的厂商,在2018年第一季度就可不并能学会英语7nm ff工艺,而GF则在2018年第二季度更新至7nm工艺。三星机会在2019年更新至7nm工艺,至于Intel机会在今后几年不断地改良买车人的10nm工艺,就算出来了也要到2021年后来了。

不过GF为7nm划分了三代,第一代是DUV(深紫外光刻),而导入EUV(极紫外光刻)需用到2019年。技术指标上,GF的第一代/第二代7nm相较14nm FinFET可提升40%性能、降低200%功耗,芯片成本降低200%。

机会各家制程路线图没哪些地方地方区别励志的话 ,没有未来等到Intel使用7nm的后来,迎来的机会是使用7nm改良版的AMD Zen2/3处里器。